第二十三章高峰实在是太想进步了 (第2/3页)
每根晶体管纵横交错，甚至在上百个层级中错落有致，这就需要光刻机运用深紫外或极紫外光源来实现了。
以EUV光刻机为例，波长为13.5nm，运用多重曝光可以轻松完成7nm及以下的高端芯片制造。
只不过目前全球只有郁金香国的ASML一家公司掌握EUV光刻机量产技术，这也是许多国家争相突破和发展的目标。
但其实，在前两年的时候，他们龙国就已经研究出了7nm的蚀刻机，这意味着国内现在距离成功造出7nm的芯片又近了一步。
只是研究出7nm的蚀刻机依然不行，他们依然还需要7nm的光刻机。
因为在芯片界里面有个特别著名的定律，名为摩尔定律，即集成电路上可以容纳的晶体管数目大约每24个月增加一倍，当然对应的理论性能也能增加一倍。
而想要在同样尺寸的芯片上增加晶体管数量，就是得把晶体管做小，提高晶体管密度。
为此就需要更加精密的刻刀，光刻机。
所谓7nm光刻机就是光刻机能刻蚀的最大分辨率。
高峰一直看到最后，直到他看到最后那句话的时候，他的眼睛止不住地瞪大。
光刻机是在挑战人类文明的极限，是人类工艺的巅峰之作。
看到这句话的瞬间，他的整颗心像是被瞬间击中。
虽然除了以上说的这些难题，制造一台光刻机还有大量需要挑战极限的事情。
但是高峰一想到这是人类工艺的巅峰之作，是人类文明的极限，他就忍不住跃跃欲试。
如果到时候他能够做出来5nm以下，甚至是极限理论上面的1nm芯片，是不是就说明他可以名留青史了！
高峰想到这里，呼吸就忍不住加快了几分，同时紧握住的拳头也隐隐颤抖起来。
不是恐惧，而是兴奋！
“叮。检测到宿主对科技的强烈兴趣。
恭喜宿主成功获得制作光刻机蚀刻机的未来十年科技的全部资料。”
在高峰这么想着的时候，他的脑海
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